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半导体制程含有酸性/碱性物质的废气 应就地配置废气处理设备的原因

半导体制程含有酸性/碱性物质的废气 应就地配置废气处理设备的原因

发布时间:2020-11-24
在半导体工艺制程中,需要使用多种特殊气体、大量的酸、碱等化学品以及有机溶剂和挥发性液体,这些气体和化学品在半导体制造的不同工艺中使用会产生废气,这些废气如果没有经过废气处理设备很好的处理便进行排放,将造成严重的问题,不仅影响人们的身体健康,恶化大气环境,造成环境污染的公害事件等,也会成为半导体制造中AMC污染的重要来源。半导体制程工艺中产生的废气类别大概有:一般气体废气、含毒性物质的废气、有机废气和含有酸性/碱性物质的废气。对于含有酸性/碱性物质的废气,半导体厂大多采用大型洗涤式中央废气处理系统进行处理。但由于半导体制造工作区域离中央废气处理系统距离较远,因此部分酸性/碱性废气在输送至中央废气处理系统前,常因气体特性导致在管道中结晶或粉尘堆积,造成管道堵塞后导致气体外泄,严重者甚至引发爆炸,危害现场工作人员的工作安全。所以,在工作区域需配置适合制程气体特性的就地废气处理设备进行就地处理,之后在排入中央处理系统,从而避免事故的发生,这就是为什么应就地配置废气处理设备的原因。
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